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Chuanglian purification |
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產(chǎn)品展示
光伏行業(yè)-20t高純水設(shè)備
光伏行業(yè)-20t高純水設(shè)備
| 太陽能電池工業(yè)高純水設(shè)備 |
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| 應(yīng)用領(lǐng)域和指標(biāo)要求參考： |
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用途 |
用水指標(biāo) |
參考標(biāo)準(zhǔn) |
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高純硅粉生產(chǎn) |
電阻率15 ~18.25 MΩ.CM |
我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
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單晶硅和多晶硅材料生產(chǎn)，切片、清洗用高純水 |
電阻率15 ~18.25 MΩ.CM |
美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) |
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太陽能電池片生產(chǎn) |
電阻率18 MΩ.CM |
我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
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藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃清洗用水 |
電阻率15 ~18.25 MΩ.CM |
我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
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石英坩堝，多晶硅方舟 |
電阻率15 ~18.25 MΩ.CM |
我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) |
| 主要工藝流程和出水指標(biāo)： |
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※ 預(yù)處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM） ※ 預(yù)處理+二級反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM） ※ 預(yù)處理+二級反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM） |
| （詳細(xì)工藝需根據(jù)原水設(shè)計情況進(jìn)行設(shè)計） |
| 純水設(shè)備的主要特點 ： |
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▼結(jié)合電子工業(yè)用水連續(xù)生產(chǎn)的特性，采用了全膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作； ▼對于電子行業(yè)用水的特性，增強了對水中二氧化硅、重金屬和有機碳的脫除； ▼采用了氮封水箱解決了電子工業(yè)用水要求較高，水的儲存容易污染問題； ▼采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定； ▼在線水質(zhì)監(jiān)測控制，實時監(jiān)測水質(zhì)變化，保障水質(zhì)放心； ▼全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單； ▼切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個性化設(shè)計，設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計，占地面積小，方位滿足需求。 ▼運行費用及維修成本低，全自動運行，實現(xiàn)無人化管理操作。 |
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| 主要工藝流程和出水指標(biāo)： |
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※ 預(yù)處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM） ※ 預(yù)處理+二級反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM） ※ 預(yù)處理+二級反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM） |
| （詳細(xì)工藝需根據(jù)原水設(shè)計情況進(jìn)行設(shè)計） |
| 純水設(shè)備的主要特點 |
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▼結(jié)合電子工業(yè)用水連續(xù)生產(chǎn)的特性，采用了全膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作； ▼對于電子行業(yè)用水的特性，增強了對水中二氧化硅、重金屬和有機碳的脫除； ▼采用了氮封水箱解決了電子工業(yè)用水要求較高，水的儲存容易污染問題； ▼采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定； ▼在線水質(zhì)監(jiān)測控制，實時監(jiān)測水質(zhì)變化，保障水質(zhì)放心； ▼全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單； ▼切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個性化設(shè)計，設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計，占地面積小，方面滿足需求。 ▼運行費用及維修成本低，全自動運行，實現(xiàn)無人化管理操作。 |
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通過不斷的服務(wù)改善，實現(xiàn)客戶差異化的服務(wù)需求；
努力提高員工的服務(wù)態(tài)度和能力，實現(xiàn)客戶滿意；
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